新着情報
- ホーム
- 新着情報一覧:全件表示 - 12
新着情報一覧:全件表示 - 12
-
特許出願及び商標登録出願における拒絶理由通知の応答期間の延長に関する運用の変更について
- 2016.04.04
-
【所内判例検討会】分散された写真アルバムの同期装置事件
- 2016.03.29
-
「商標審査基準」が45年ぶりに大幅に見直されました
- 2016.03.23
-
画像を含む意匠に関する意匠審査基準の改訂
- 2016.03.14
-
地域団体商標事例集2016
- 2016.03.09
-
国際調査・国際予備審査機関としてシンガポール知的財産庁が選択可能になります
- 2016.03.02
-
シンガポールを指定する意匠の国際出願の公表延期請求
- 2016.02.25
-
米国を指定した国際登録:USPTOへの使用継続宣誓供述書の提出リマインダー
- 2016.02.24
-
商標法に関するシンガポール条約(STLT)の概要
- 2016.02.11